化學(xué)試劑 Ce(NH4)2(NO3)6

單電子氧化劑can在銅刻蝕技術(shù)中具有重要應(yīng)用，主要基于其強(qiáng)氧化性，可將銅氧化從而實(shí)現(xiàn)刻蝕。相關(guān)介紹如下： 刻蝕原理：?jiǎn)坞娮友趸瘎ヽan是一種強(qiáng)氧化劑，化學(xué)式為 (NH?)?Ce (NO?)??2H?O6。在銅刻蝕過(guò)程中，鈰銨中的 Ce??具有強(qiáng)氧化性，能將銅單質(zhì)氧化為銅離子，自身被還原為 Ce3?，反應(yīng)方程式可表示為：Cu + 2 (NH?)?Ce (NO?)? = Cu (NO?)? + 2 (NH?)?Ce (NO?)?。 蝕刻液組成1：鈰銨可與硫酸等組成蝕刻液，如一種蝕刻鉻銅金屬的蝕刻液中，，添加劑濃度為 1-50g/l。 應(yīng)用場(chǎng)景：?jiǎn)坞娮友趸瘎ヽan常用于集成電路制造等領(lǐng)域的銅刻蝕工藝。例如在銅互連結(jié)構(gòu)制造中，可采用濕法刻蝕工藝，利用鈰銨和硝的混合液去除相關(guān)金屬阻擋層，以便進(jìn)行后續(xù)的銅電鍍等工藝3。它還可用于印制電路板（PCB）制造中，對(duì)銅箔進(jìn)行刻蝕，形成所需的電路圖案。 優(yōu)點(diǎn)：鈰銨參與的刻蝕工藝具有一定優(yōu)勢(shì)，如刻蝕速率較快，能夠提高生產(chǎn)效率；可通過(guò)調(diào)整蝕刻液成分和工藝條件，較好地控制刻蝕速率和刻蝕精度，滿足精細(xì)線路制作的要求。