H2O水含量對穿激光分析儀
陜西卓宇佳創(chuàng)儀器儀表有限公司
2024-06-13 18:24:55






功能特點:
1. 基于懷特池技術進行設計,多次反射,光程長。
2. 吸收池腔體內(nèi)部進行防腐表面處理,耐腐蝕性更強。
3. 溫控范圍可調(diào),最高控溫可達300℃。
4. 吸收池腔體獨立設計,可獨立拆裝,方便清洗。
應用領域:
. 氣體測量 研究濃度分析
. 工業(yè)過程氣體檢測HGPQH系列高溫氣體吸收池基于懷特池原理,為測 量易溶于水易吸附的氣體而設計。產(chǎn)品增設溫控系統(tǒng), 溫控范圍可調(diào)。產(chǎn)品外設安裝孔位,可嵌入系統(tǒng)分析儀使用。產(chǎn)品響應速度快,可靠性高,穩(wěn)定性好。既能作為實驗室科研,又可作為分析儀核心部件使用。
功能特點:
1. 基于懷特池技術進行設計,多次反射,光程長。
2. 吸收池腔體內(nèi)部進行防腐表面處理,耐腐蝕性更強。
3. 溫控范圍可調(diào),最高控溫可達300℃。
4. 吸收池腔體獨立設計,可獨立拆裝,方便清洗。
應用領域:
. 氣體測量 研究濃度分析
. 工業(yè)過程氣體檢測


產(chǎn)品概述:
原位式激光氣體分析儀基于TDLAS 原理,專為原位式氣體測量量身打造。原位式激光 氣體分析儀能夠在各種環(huán)境下應用,特別是在高溫、高壓、高粉塵、強腐蝕等惡劣環(huán)境對氣體濃度等參 數(shù)的在線測量。產(chǎn)品響應速度快,可靠性高,穩(wěn)定 性好。調(diào)制解調(diào)部分采用模塊化設計,維護方便, 運行費用低。能對各類工業(yè)過程氣體、環(huán)保排放煙 氣等過程氣體進行快速、準確、實時的測量。
功能特點:
1. 基于獨特的數(shù)字TDLAS技術。
2. 在線檢測,對氣體濃度進行實時測量。
3. 可根據(jù)現(xiàn)場需求輸出 4-20mA/RS485信號。
4. 帶吹掃功能設置,無需對待測氣體進行預處理。
5. 調(diào)制解調(diào)部分模塊化設計,維護方便,使用靈活。
6. 工控屏可實現(xiàn)人機交互,操作簡單。
7. 性能優(yōu)良,抗干擾能力強,功耗低。
8. 支持測量 CO、CO2、CH4 、O2、C2H4、C2H2 、NH3、H2S、C2H6 氣體。
9. 適用于各種工業(yè)環(huán)境。
應用領域:
. 過程分析
. 冶煉、化工
性能參數(shù):
氣體 跨度校準 零點校準 分辨率 重復性 測量精度 響應時間 漂移
見技術參數(shù) 無 無 1%FS. ±1%FS. ±1%FS. 3S ±1%FS.
功能參數(shù):
管道法蘭規(guī)格 吹掃接口規(guī)格 供電 穩(wěn)態(tài)功耗 預熱時間 數(shù)字輸出
DN50 Φ8mm(可定制) DC24V <10W 1min 4-20mA/RS485
系統(tǒng)指示:
工作條件 供電參數(shù) DC24V,<10W
吹掃氣體 (0.3~0.8)MPa工業(yè)氮氣
環(huán)境溫度 -10℃~50℃
管道直徑 <5m
技術參數(shù) 量程范圍 0-100%
響應時間 >1s(可調(diào))
線性誤差 ≤±1%全量程
量程漂移 ≤±1%全量程
防爆等級 ExdIICT6
防護等級 IP67


激光在線氧含量分析儀采用TDLAS技術(可調(diào)諧半導體激光光譜吸收技術),為目前先進的氣體測量方法之一,應用于精細化工、新型能源、石油化工、生物制藥、鋼鐵冶煉、焦爐煤氣、發(fā)酵過程監(jiān)測等領域進行實時在線氧氣含量監(jiān)測,針對各種尾氣、反應釜、過程氣中的氧氣含量檢測分析。該儀表具有靈敏度高、響應速度快、不受背景氣體干擾、非接觸式測量等特點,為實時準確地反映氧氣變化提供了可靠保證。根據(jù)工藝點不同,可選擇不同測量參數(shù),監(jiān)測系統(tǒng)能準確測量樣氣中的氣體含量。此系統(tǒng)在吸收國外同類產(chǎn)品優(yōu)點的基礎上,針對目前惰化工藝中氮氣置換保護的特點而專門設計。該過程分析裝置已成功應用于國內(nèi)多家生產(chǎn)企業(yè)以及設備生產(chǎn)廠家,為企業(yè)獲得了良好的經(jīng)濟效益和社會效益,贏得了用戶及生產(chǎn)廠商的好評。
2、整套裝置包括預處理、采樣和分析三部分組成,預處理部分采用分級過濾除塵、渦旋制冷器降溫除水,以此來保證分析部分的壽命和測量精度,并將檢測到的氣體含量以 4-20mA 的電流信號提供給用戶,用于實現(xiàn)系統(tǒng)工藝自動控制。
二、產(chǎn)品特點:
1、不受背景氣體的影響
傳統(tǒng)非色散紅外光譜吸收技術采用的光源譜帶很寬,其譜寬范圍內(nèi)除了被測氣體的吸收譜線外,還有很多基他背景氣體的吸收譜線。因此,光源發(fā)出的光除了被待測氣體的多條譜線吸收外還被一些背景氣體的吸收,從而導致測量的不準確性。 而半導體激光吸收光譜技術中使用的半導體激光的譜寬小于 0.001nm,遠小于被測氣體一條吸收譜線的譜寬。如激光在線氣體分析儀測量原理圖所示的“單線吸收光譜”數(shù)據(jù)。 同時在選擇該吸收譜線時,就保證在所選吸收譜線頻率附近約 10 倍譜線寬度范圍內(nèi)無測量環(huán)境中背景氣體組分的吸收譜線,從而避免這些背景氣體組分對被測氣體的交叉吸收干擾,保證測量的準確性。




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關鍵詞:小管道原位激光分析儀,對射激光氣體分析儀,單臂激光分析儀,插入式激光分析儀
郭堃
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