日本島津光電發(fā)射光譜分析儀PDA-5500S PDA-7000

日本島津光電發(fā)射光譜分析儀PDA-5500S PDA-7000

日本島津光電發(fā)射光譜分析儀 PDA-5500S的詳細(xì)描述：


光電發(fā)射光譜儀PDA系列

與日本冶金行業(yè)共同進(jìn)步的島津?yàn)槟峁?--光電發(fā)射光譜儀 PDA系列

島津多年來(lái)向世界提供在金屬質(zhì)量管理中必不可少的光電發(fā)射光譜儀，如今又推出了集各項(xiàng)精華于一體的PDA-7000。標(biāo)準(zhǔn)配置島津獨(dú)創(chuàng)的時(shí)間分解PDA測(cè)光法，強(qiáng)有力地支持質(zhì)量管理分析。

; 穩(wěn)定性提高
采用新設(shè)計(jì)的機(jī)身/發(fā)光臺(tái)，使穩(wěn)定性大幅提高。

; 分析精度提高
采用新設(shè)計(jì)的發(fā)光臺(tái)和適合分析范圍的適合的發(fā)光條件，從高含量到微量的元素均可進(jìn)行高精度分析。

; 鋼鐵中氮的高靈敏度分析
氮的檢測(cè)下限達(dá)5ppm。在爐中分析中，達(dá)到了可以代替氣體分析儀的水平。

; 標(biāo)準(zhǔn)配備高功能
配備一直獲得好評(píng)的PDA時(shí)間分解測(cè)光、形態(tài)分析處理功能。

; 豐富的產(chǎn)品系列，應(yīng)對(duì)多種用途?！a(chǎn)品系列的詳細(xì)內(nèi)容

鋼鐵、鋁、鎂、銅、鋅、錫、鈦、鎳、鈷等各種固體金屬的基體金屬、合金中的組成元素、

雜質(zhì)微量元素的定量：PDA-7000

鑄鐵/鋼鐵專(zhuān)用機(jī)型：PDA-5500S

; 出色的成績(jī)
長(zhǎng)期以來(lái)，與冶金行業(yè)共同發(fā)展，積累了豐富的技術(shù)信息。

發(fā)射光譜分析：（OES：Optical Emission Spectroscopy）

所謂發(fā)射光譜分析是指使用放電等離子體蒸發(fā)氣化來(lái)激發(fā)樣品中的目標(biāo)元素，根據(jù)得到的元素固有的亮線(xiàn)光譜（原子光譜）的波長(zhǎng)進(jìn)行定性，并根據(jù)發(fā)光強(qiáng)度進(jìn)行定量的分析方法。

??廣義上講，激發(fā)放電（光源）還包括使用ICP（Inductively coupled plasma電感耦合等離子體）作為激發(fā)放電（光源）的ICP發(fā)射光譜分析。但發(fā)射光譜分析（發(fā)光分析）或光電測(cè)光式發(fā)射光譜分析，是指使用火花放電/直流電弧放電/輝光放電作為激發(fā)放電的發(fā)射光譜分析。發(fā)射光譜分析中，在固體金屬樣品和與電極之間發(fā)生放電。

??島津的發(fā)射光譜分析裝置是在氬氣氛圍中進(jìn)行火花放電，對(duì)火花脈沖的發(fā)光進(jìn)行統(tǒng)計(jì)處理，采用可提高測(cè)定重現(xiàn)性（精度）的方式（PDA測(cè)光方式：Pulse Distribution Analysis）。

??發(fā)射光譜分析裝置可快速測(cè)定固體金屬樣品的元素組成，是在煉鐵、鋁冶煉工藝管理用中必不可少的手段。



日本島津光電發(fā)射光譜分析儀 PDA-7000的詳細(xì)描述：
分光系統(tǒng)：
分光裝置：凹面全息離子刻蝕衍射光柵，帕邢-龍格裝置?；
波長(zhǎng)范圍：120-589nm
?衍射光柵：凹面光柵曲率半徑：600nm
刻線(xiàn)數(shù)：?? 2400條/nm
真空系統(tǒng)：直聯(lián)放置真空泵?? 真空度1.33Pm
光源系統(tǒng)：
激發(fā)電壓：500V或300V（軟件設(shè)置自動(dòng)轉(zhuǎn)換）
激發(fā)條件：6種類(lèi)型
激發(fā)頻率：可設(shè)置3種放電頻率（均可在40-500Hz范圍內(nèi)軟件自動(dòng)轉(zhuǎn)換）
發(fā)光臺(tái)：? 水平型氬氣保護(hù)發(fā)光臺(tái)
對(duì)電極清洗：每次激發(fā)結(jié)束時(shí)自動(dòng)清洗
測(cè)光系統(tǒng)：
通道數(shù)：多64個(gè)通道
PDA測(cè)光法
單一脈沖積分法
分析軟件：
分析元素?cái)?shù)：64個(gè)元素
處理通道數(shù)：64個(gè)元素（包括內(nèi)標(biāo)元素）
PDA處理通道數(shù)：64個(gè)元素（包括內(nèi)標(biāo)元素）
內(nèi)標(biāo)準(zhǔn)法：對(duì)每個(gè)元素可以指定2個(gè)內(nèi)標(biāo)
工作曲線(xiàn)： 64×4=256條/每組，1—3次式，可通道跳躍
標(biāo)準(zhǔn)樣品登錄數(shù)：2000個(gè)標(biāo)準(zhǔn)樣品/每個(gè)基體
標(biāo)準(zhǔn)化：1點(diǎn)或2點(diǎn)標(biāo)準(zhǔn)化
校正處理：100%校正；共存元素校正，每個(gè)通道16個(gè)元素；控樣校正；特殊計(jì)算；
工程管理功能：規(guī)格判斷；R管理；-R管理圖；直方圖；
數(shù)據(jù)傳輸：RS-232C上傳輸；自動(dòng)或手動(dòng)；局域網(wǎng)傳輸（TCP/IP選購(gòu)件）；
分析數(shù)據(jù)處理：可將分析結(jié)果制作日?qǐng)?bào)；分析數(shù)據(jù)可轉(zhuǎn)換為表格文件；數(shù)據(jù)庫(kù)功能；
分析情報(bào)保護(hù)：密碼保護(hù)

設(shè)置場(chǎng)所的環(huán)境要求：
面積：大約3×2m以上
溫度：10-30℃? 每小時(shí)變化＜5℃?
參考：裝置的發(fā)熱量大約為1100Kcal/小時(shí)
氬氣：純度要求99.995%以上, 氧含量＜5ppm；分析高硅時(shí)，氧含量＜2ppm
電源：?jiǎn)蜗?220V±10%

分光系統(tǒng)：
分光裝置：凹面全息離子刻蝕衍射光柵，帕邢-龍格裝置?；
波長(zhǎng)范圍：120-589nm