離子滲氮：活性屏離子氮化

活性屏離子氮化技術(shù)是在普通離子滲氮爐中安裝一個(gè)鐵籠，將被處理的工件罩在鐵籠內(nèi)，將原來連接在工件上的DC負(fù)高壓接到鐵籠上，鐵籠產(chǎn)生輝光放電，被處理的工件處于電懸浮狀態(tài)或連接在-100 ~-200伏的DC負(fù)偏壓下。

活性屏離子氮化技術(shù)的發(fā)明者認(rèn)為，鐵籠在滲氮過程當(dāng)中主要起兩個(gè)作用：一是起加熱源的作用；第二，粒子起氮化載體的作用。在活性屏離子氮化過程當(dāng)中，離子直接轟擊的是保持架而不是工件表層，因此DCPN技術(shù)中存在的工件電弧、空心陰極效應(yīng)、電場(chǎng)效應(yīng)、大小工件不可混合、工件溫度不均勻、工件溫度測(cè)量困難等技術(shù)問題。并且對(duì)操作員的要求大大下降。

盡管大家對(duì)活性屏離子氮化的機(jī)理有不同的解釋和看法，但有一點(diǎn)是一致的，即離子轟擊陰極濺射的粒子是實(shí)現(xiàn)活性屏離子氮化的關(guān)鍵材料。對(duì)于工業(yè)規(guī)模的活性屏離子氮化設(shè)備，問題是如何將從保持架濺射的顆粒輸送到遠(yuǎn)離保持架的工件表層。
活性屏離子氮化技術(shù)的發(fā)明者認(rèn)為，通過保持架的氣流將濺射的顆粒從保持架吹到工件表層，從而實(shí)現(xiàn)滲氮，因此早期活性屏離子氮化設(shè)備的保持架周圍有許多圈氣體分布管，因此活性屏離子氮化技術(shù)也稱為TC技術(shù)。目前，大多數(shù)公司生產(chǎn)的活性屏離子滲氮設(shè)備沒有配備這種多環(huán)配氣管。