射頻離子源：陽極膜線性離子源的特色及用途

射頻離子源 根據(jù)陽極層線性封閉漂移的理論，氣體以離子形式在陰極和陽極之間通過，陽極的正電壓與施加在內(nèi)部和外部陰極末端之間的強(qiáng)磁場(chǎng)相互作用，從而 產(chǎn)生等離子體。 驅(qū)動(dòng)陽極電場(chǎng)以從離子源產(chǎn)生離子束射流。

陽極膜線性離子源的用途

??可用作清理離子源以清理基材表層。

??DLC和光學(xué)膜，氧化物，氮化物等可以在磁控濺射過程當(dāng)中作為離子輔助沉積直接鍍?cè)谌嵝曰迳稀?/span>

?陽極膜線性離子源的特色

??低氣壓，低電壓，高束流。 陽極膜離子源產(chǎn)生的低能量，高電流離子束可有效去除基材表層上的有機(jī)污染物和氧化膜，增加薄膜的附著力，并避免在轟擊時(shí)損壞基材（ 例如平板顯示器涂料，柔性基材涂料）。

??沒有燈絲，格柵和中和格柵，它可以長(zhǎng)時(shí)間穩(wěn)定運(yùn)行并生產(chǎn)。 從故障到極地維護(hù)的平均時(shí)間非常高。 由于陽極膜離子源不需要燈絲，空心陰極和其他電子中和器，并且完全經(jīng)過水冷，因此其對(duì)涂層環(huán)境溫度的所有變化都很小。 此功能對(duì)熱敏性基材的涂層非常有益。 同樣，由于沒有電子中和器，因此可以長(zhǎng)時(shí)間不維護(hù)地工作。

??能適應(yīng)各種反應(yīng)氣體和惰性氣體。 陽極膜離子源的結(jié)構(gòu)和材料組成使其完全適用于大多數(shù)反應(yīng)性氣體，例如氮?dú)?，氧氣和甲烷?/span>

??離子源的長(zhǎng)度可以根據(jù)用戶需要制造。