離子束加工的主要應(yīng)用

離子束加工的主要應(yīng)用? 離子束加工的應(yīng)用領(lǐng)域正在日益擴大、不斷創(chuàng)新，目前用于改變零件表層尺寸和表層物理、力學性能的離子束加工有：刻蝕加工、離子鍍膜加工等。 1、刻蝕加工的定義及具體應(yīng)用領(lǐng)域? 1.1刻蝕加工的定義??離子刻蝕是從工件上去除材料，是一個撞擊過程，離子束刻蝕工藝的一個很重要的物理參數(shù)是刻蝕速率，它表征著每一個入射離子打出的原子數(shù)，刻蝕速率與離子束能量、束流大小、離子束轟擊表層的入射角以及被加工材料的原子結(jié)構(gòu)、晶向等許多因素有關(guān)，離子束能量、束流越大，刻蝕速率越大。 1.2刻蝕加工的應(yīng)用領(lǐng)域 刻蝕加工一方面可用于加工陀螺儀空氣的溝槽，分辨率高，精度、重復(fù)一致性好，也可用于加工費球面鏡，離子束刻蝕加工應(yīng)用的另一方面是刻蝕高精度的圖形，如集成電件、磁泡器件、光電器件和光集成器件等，離子束刻蝕系統(tǒng)的優(yōu)點在于：分辨率高，可得小于10nm的特征尺學掩膜；直接離子移植。 2、離子鍍膜加工的定義及具體應(yīng)用 2.1離子鍍膜加工的定義 離子鍍是在真空蒸發(fā)鍍和濺射鍍膜一種鍍膜新技術(shù)，將各種氣體放電方式引入到氣相沉積領(lǐng)域，整個氣相沉積過程都是在等離子體進行的，鍍膜時，工件帶負偏壓，工件始終手高能離子的轟擊，具有形成膜層與膜基結(jié)合力好、膜層的繞度性好、膜層組織可控參數(shù)多、膜層粒子總體能量高，容易進行反應(yīng)沉積，可以在較低溫度下獲得化合物膜層等優(yōu)點。 2.2離子鍍膜加工的具體應(yīng)用 離子鍍可鍍材料范圍廣泛，不論金屬、非金屬表層上均可鍍制金屬或非金屬薄膜，各種合金、化合物、或某些合成材料、半導體材料、高熔點材料亦均可鍍覆，離子束鍍膜技術(shù)可用于鍍制潤滑膜、耐熱膜、裝飾膜和電氣膜等，離子束裝飾膜，離子束鍍膜代替鍍鉻硬膜，可減少鍍鉻公害，提高刀具的壽命。