超邁光電自主研發(fā)生產(chǎn)鍍膜設(shè)備 廠家直營(yíng)快速定制 規(guī)格型號(hào)齊全

一、鍍膜機(jī)的主要組成部分

一臺(tái)完整的鍍膜機(jī)通常包括以下主要組成部分：

1.真空腔體：用于產(chǎn)生和維護(hù)真空環(huán)境，主要包括吸氣、排氣、內(nèi)外罩殼、維護(hù)裝置、真空系統(tǒng)等相關(guān)設(shè)備。

2.基片夾持系統(tǒng)：用于固定需要進(jìn)行鍍膜的基片，通常采用機(jī)械夾持或者磁力夾持的方式。

3.靶材或者源材料：用于鍍膜過(guò)程中的材料來(lái)源，通常是固體靶材或者液態(tài)源材料。

4.鍍膜控制系統(tǒng)：用于對(duì)鍍膜過(guò)程中各個(gè)參數(shù)的控制和監(jiān)測(cè)，包括真空度、電壓、電流、工件溫度、鍍層厚度等參數(shù)的監(jiān)測(cè)和調(diào)整。

五、鍍膜機(jī)工作原理

鍍膜機(jī)的工作原理通常是利用真空環(huán)境中高速運(yùn)動(dòng)的金屬離子撞擊材料表面，從而使其表面生成一層金屬膜層。下面是具體的鍍膜過(guò)程：

1.首先，將需要鍍膜的基片夾在夾持系統(tǒng)中，通過(guò)真空泵將腔體內(nèi)的氣體排出，形成高真空環(huán)境。

2.將靶材或者源材料置于真空腔體內(nèi)，并利用磁場(chǎng)或者電弧等方式將其電離或者氣化。

3.通過(guò)高壓電場(chǎng)，將離子加速并將其引向基片表面，撞擊基片表面，并與基片表面原子結(jié)合形成金屬膜層。

4.通過(guò)控制電壓、電流等各種參數(shù)，可以控制成膜速度和成膜厚度，從而控制鍍層的質(zhì)量和厚度。